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湖南顶立科技股份有限公司
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公司介绍

湖南顶立科技股份有限公司

湖南顶立科技股份有限公司创建于2006年,是一家专注于特种材料及特种热工装备研制、生产和销售的高新技术企业。公司荣获国家级专精特新重点“小巨人”企业、国家制造业单项冠军企业称号。公司是A股主板上市公司——楚江新材(股票代码:002171)的控股子公司。公司构建了多层次研发平台体系,拥有“全国博士后科研工作站”、“航空动力特种焊接技术与材料湖南省国防科技重点实验室”、“湖南省新型热工装备工程技术研究中心”、“绿色节能热工装备与智能控制技术湖南省工程实验室”以及“航天航空热工装备湖南省工业设计中心”等创新平台。公司攻克了长期制约我国热工装备及新材料领域的重大关键核心技术,取得了一系列科技成果。截至

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主推产品

真空烧结炉(碳化硅/氮化硅/氮化铝)
型号:HVSF

该设备可用于陶瓷胚体和制品的反应烧结、无压烧结、重结晶烧结等,也可用于陶瓷粉体材料的制备。☆采用顶立科技专属超高温、大电流引电技术,能在高温条件下长时间稳定使用;☆采用特殊的高温红外测量技术,控温准确,误差小;☆配置专属密封马弗,产品产生的硅蒸汽等副产物对加热器及绝缘材料等的污染小;☆采用专用尾气处理装置,环境友好,易清理;☆可选择配置脱脂系统,实现陶瓷制品的脱脂烧结一次性处理。☆炉门:丝杆升降/液压升降/手动升降;手动锁紧/自动锁圈锁紧☆炉壳:全碳钢/内层不锈钢/全不锈钢☆炉胆:软碳毡/软石墨毡/硬质复合毡/CFC☆加热器、马弗:等静压石墨/模压三高石墨/细颗粒石墨☆工艺气路系统:体积/质量

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氮化硅压力烧结炉(卧式)
型号:HPSF-4412

氮化硅压力烧结炉(卧式)产品描述:氮化硅压力烧结炉(卧式)主要用于半导体领域氮化硅陶瓷制品的真空烧结和气压烧结等。应用范围:氮化硅陶瓷球、轴承、导热基板、平台、导轨、刀具、结构件等。氮化硅压力烧结炉(卧式)技术特征采用特殊的炉胆结构和加热器布置,炉温均匀性好;全密闭马弗,密封效果好,抗污染能力强;可具备真空烧结、压力烧结、负压脱脂烧结等功能;具有超温超压等故障报警,机械式自动压力保护,动作互锁等功能,设备安全性高;可选配脱脂系统,实现陶瓷制品的脱脂烧结一次性处理;适于工艺气氛:N2/Ar/H2。氮化硅压力烧结炉(卧式)产品规格型号/参数HPSF-4412HPSF-5518HPSF-6615HP

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卧式化学气相沉积炉(碳化硅)
型号:HCVD-060609-C

卧式化学气相沉积炉(沉积炭)主要用于以碳氢气体(天然气、丙烷、丙烯)为碳源的预制体气相渗透增密处理电阻炉可采用多温区独立控温,温度均匀性好;采用智能压力调控,压力波动小;全封闭沉积室,密封效果好,抗污染能力强;多通道工艺气路,流程均匀,无沉积死角,沉积效果好;多级高效尾气处理系统,环境友好,能高效收集焦油及副产物,易清理;可选配外循环快冷系统,降温时间短,生产效率高;参数\型号HCVD-060609-CHCVD-101015-CHCVD-121220-CHCVD-151530-CHCVD-152023-CHCVD-252035-C工作区尺寸W×H×L(mm)600×600×9001000×10

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真空烧结炉(碳化硅/氮化硅/氮化铝)

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氮化硅压力烧结炉(卧式)

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卧式化学气相沉积炉(碳化硅)

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  • 固废热解装备
  • 高纯碳材料
卧式化学气相沉积炉(碳化硅)

型号:HCVD-060609-C

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卧式真空石墨化炉

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间歇式提纯炉(卧式)

型号:VPF

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型号:HPSF-4412

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连续式烧结炉

型号:PCF-1216

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立式真空(脱脂)烧结炉(碳化物陶瓷)

型号:V(D)SC

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碳化硅烧结炉(卧式)

型号:HSC-050511

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型号:PMI-0304-M

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立式双室真空气冷油淬炉

型号:VVOQ-1520D

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型号:SBF-1500/200-14

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型号:SBF-1500/80-14

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TaC 碳化钽涂层

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型号:HCVD-060609-C

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